磁控溅射仪

ED500 高真空三靶磁控溅射镀膜设备

 

购置年份：2016年

 

制造商：艾明珂科技有限公司（中国）

 

技术指标：溅射室极限真空度：7×10-5Pa；基片尺寸：直径≤2英寸

 

功能：制备功能性薄膜

 

存放地点：化新楼B座308

 

联系人：黄海丽

 

电话：64441471

 

邮箱：hlhuang@mail.buct.edu.cn