ED500 高真空三靶磁控溅射镀膜设备

购置年份：2016年

制造商：艾明珂科技有限公司（中国）

技术指标：溅射室极限真空度：7×10-5Pa；基片尺寸：直径≤2英寸

功能：制备功能性薄膜

存放地点：化新楼B座308

联系人：黄海丽

电话：64441471

邮箱：hlhuang@mail.buct.edu.cn